Suministro e instalación de un sistema de plasma para el ataque seco de capas microelectrónicas mediante la técnica de grabado iónico reactivo (RIE) con destino al Instituto de Microelectrónica de Barcelona
Datos de la licitación
Organismo
Ministerio de Educación y Formación ProfesionalLicitaciones de Ministerio de Educación y Formación Profesional
I—Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)Licitaciones de Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
Objeto del contrato
Suministro e instalación de un sistema de plasma para el ataque seco de capas microelectrónicas mediante la técnica de grabado iónico reactivo (RIE) con destino al Instituto de Microelectrónica de Barcelona
Lugar ejecución/entrega
BarcelonaLicitaciones en Barcelona
Estado de presentación
Desierto
Plazo de presentación
De 10/09/2019 a 25/09/2019
Expediente
1183/19
Presupuesto base
87.900,00 Euros
Pliegos y anuncios publicados de la licitación
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